产品特点:
采用频率为数十千赫兹的中频电源，配备经过严格磁路设计的孪生靶（对靶），可以避免“打火”、“阳极消失”、“靶中毒”等现象，提高了离化率、溅射速率，显著提高沉积速度，适合做化合物薄膜（如TiO2、TiN、TiC、TiCN、TiAlN等）的沉积。中频磁控离子镀膜机在近几年得到了迅猛的发展，在钟表、眼镜、五金等装饰度领域得到广泛的应用。
技术参数:
▲真空室箱体：主要规格有800*1000mm、1000*1200mm，并可以根据客户具体要求设计非标产品。
▲夹具方式：采用公自转行星式齿轮结构，工件速度在1-15转/分钟可调。
▲控制气体方式：采用质量流量计控制，进气稳定，反应速度快。
▲靶：采用整体制造技术，严格缜密的磁场设计和磁路布局，溅射刻蚀均匀。
▲电源：配置有中频电源（20KW、40KW等规格）、直流脉冲电源（电压、占空比可调节），并可根据实际的情况加装离子源等辅助设施。
▲抽气系统：采用国产品牌机械泵、罗茨泵、扩散泵，根据其真空室大小确定合理型号。也可以根据客户的需要配备分子泵或者进口泵等。
▲抽真空参数：从大气抽至5*10‾³Pa≤15min极限真空度8*10‾4Pa。
