采用大型平面靶技术，可以在玻璃上面镀制单质金属膜、复合膜、电磁屏蔽膜、ITO膜，可以根据需要配置多个真空室，每个真空室根据需要配置不同的靶材，室与室之间采用独立的真空抽气系统，可以随意调节各个真空室的气体参数，镀制不同的膜层，可以满足工业化连续生产的需要。广泛应用于玻璃、PMMA、电子屏蔽等各种镀膜领域。
技术参数：
镀膜产品最大尺寸：1200*2400等规格，可根据客户的具体需求设计而设计制造。
夹具方式：连续式平面移动方式。
各个机型均可选择手动、自动控制系统。
