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连续线式磁控溅射真空镀膜设备

 
规格1: 规格1未填写
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规格3: 规格1未填写
单价: 面议
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供货总量:
发货期限: 自买家付款之日起 3 天内发货
所在地: 广东 东莞市
有效期至: 2013-11-18 [已过期]
最后更新: 2012-06-11 15:39
浏览次数: 1082
 
公司基本资料信息
详细说明
连续线式磁控溅射真空镀膜设备主要用于在平板玻璃、压克力、PC、PET等表面镀制高质量、高性能金属膜、电磁屏蔽膜、反应膜、复合膜、透明导电膜、抗反射(AR)、增反射膜,LOW-E等膜层。本公司可按用户要求提供设计,提供全套设备,负责工艺,按交“钥匙”工程服务。

设备特点:
1.设备采用真空磁控溅射技术,孪生阴极,中频溅射技术,并配以先进的控制系统 。
2.生产过程全部自动,连续进行。被镀工件加热温度最高可达350℃,温度分区控制可调。
3.真空室材料采用SUS304,真空室内壁进行抛光处理,外壁采用抛光后喷漆处理。
4.真空室之间采用独立门阀隔开,我们设计的是插板阀,可以有效隔断,稳定工艺气体。传动采用磁导向,保障传动的稳定性。整条生产线的各段速度采用变频调速电机驱动,运行速度可调节。
5.电气控制系统:触摸屏与PLC自动控制,人机对话方式来实现系统的数据显示、操作与控制。
http://www.suichenggd.cn/
http://www.diqiuw.com/com/hcvacuum/

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