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中频磁控溅射真空镀膜设备

 
规格1: 规格1未填写
规格2: 规格1未填写
规格3: 规格1未填写
单价: 面议
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供货总量:
发货期限: 自买家付款之日起 3 天内发货
所在地: 广东 东莞市
有效期至: 2013-11-18 [已过期]
最后更新: 2012-06-11 15:39
浏览次数: 1071
 
公司基本资料信息
详细说明
中频磁控溅射真空镀膜设备已渐成为溅射镀膜的主流技术,它优于直流磁控溅射镀膜的特点是
1.克服了阳极消失现象,
2.减弱或消除靶的异常弧光放电。因此,提高了溅射过程的工艺稳定性,同时,提高了介质膜的沉积速率数倍。
    汇成公司研发了平面靶,圆柱靶,孪生靶,对靶等多种形式的中频溅射靶结构和布局。该类设备广泛应用于表壳、表带、手机壳、高尔夫球具、五金、餐具等镀TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各种装饰镀层。
http://www.suichenggd.cn/
http://www.diqiuw.com/com/hcvacuum/
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